钻石有哪些种类及制作方法？该如何选则？

工业用的钻石，也就是合成钻石，其制作方法主要有三种高温高压 (HPHT)、爆炸法和CVD

1.高温高压

钻石的成份为大家已知只有一种成分即为碳（Ｃ），石墨的成分一样为碳（Ｃ），只是在结构上有所差异，石墨SP2结构为三向配位的二维分子面（CN=3），钻石SP3结构为四向配位的三维分子体（CN=4），因此只要将石墨加给足够的压力跟温度，亦即给予足够的能量，予以适当的催化剂，即可将石墨转换成为钻石，一般来说转换石墨成为钻石需要1200-1500度C的高温，同时合并要有5-7万个大气压，这样的设备主流的生产方式有两种设备即两面顶与六面顶两种设备，但因六面顶生产成本及生产效率较两面顶来得能够降低成本，目前高温高压生产的钻石，有超过九成都是以此方法生产

2. 爆炸法

爆炸法分为两种一种为直接合成，是在密闭空间引燃炸药，在空间内因气体爆发大量的碳原子彼此互相一起撞击产生高压，且处于缺氧的情况下，将炸药本身的碳原子瞬间压成炸渣，此种方式所得到的钻石颗粒极小比表面积极大，因此会吸附大量的杂质，这种直接合成法适用于生产单晶的奈米钻石。

另一种爆炸法为以超音波震波件接着撞击石墨，使其石墨在瞬间转换为微米或是奈米钻石，制造实为将石墨与铜粉均匀混合，并施以等静压法制成圆棒，圆棒以一内含真空隔层的钢管密封，再加以数公吨的炸药填塞于周围，点燃炸药后会把钢管由一端挤压到另一端，管内石墨会在瞬间经历约数千度及20~30万左右的大气压力，在数微秒内石墨会转变成钻石，这种制作方法出来的钻石因含有大量缺陷的多晶体，外形如爆米花或马铃薯状，因此此种方法多为生产多晶奈米或微米钻石

3. CVD 气相沈积法

气相沈积法 (CVD) 钻石是用一种较为新型的培育钻石的方法，将含碳气体（甲烷气体）充满真空室，真空室底部形成一种碳等离子体,该等离子体不断沉积在压力室底部的碳底层上,整个结晶过程会持续数周，所产生的片状晶体通常会有黑色的粗糙边缘，晶体也常呈现棕色，不过可以通过热处理去除。运用CVD合成法培育的钻石晶体大多呈褐色或浅灰色，但如果在真空室中加入少量氮或硼，则可培育出黄色，粉红色- 橙色或蓝色晶体，通过这种方法，也可能培育出无色晶体，但培育周期更长。通过CVD合成法培育而成的钻石大部分是IIa型，而市面上大多数通过CVD合成法培育的无色钻石都是经过HPHT退火脱色处理的棕色晶体。运用CVD合成法和运用HPHT合成法所培育出的钻石具有不同的宝石学特性，运用CVD合成法培育出的钻石往往具有更高的透明度，并且几乎没有内含微小的暗色