日本engis超精密抛光技术

日本Engis超精密抛光技术可说是集合多年的加工经验及无数次的失败而累积起来，并首先将钻石具有抛光之特性加以研究开发，成功地应用在精密加工，并在世界各国建立高度信赖感及实绩，成为全世界超精密抛光之先驱，为了提供全方位抛光加工服务，领先开发抛光定盘平面之自动修整器功能，以提升奈米抛旋光性能。

   鉴于亚洲新兴科技工业兴起，并在集团的雄厚资金及优异技术支持下，于1983年4月在日本横滨市成立了日本Engis，并且设立钻石液研发及调配生产工厂，能够供给齐全的钻石种类，而且可以依照客户之需求调制出单晶和多晶及各种浓度能并广泛应用在各界精密加工领域，尤其是在光电材料及特殊硬脆材料上有着举足轻重之地位。为了服务广大客户之精密加工要求，于1987年在横滨总公司设立专业研磨抛光实验室，配置各式先进检测仪器以及抛光设备以能够量产为开发目的，并以集团多年之累积经验基础及搭配优秀设备加以研究开发合适量产用且具有经济实惠之制程。
  
   抛光定盘是采用高分子树脂材料及金属粉末烧结而成高分子之复合盘，因为具有柔软性，工件与钻石磨粒接触时会有缓冲性避免刮伤表面，且钻石磨粒可附着固定在盘面使磨粒保持规律弹性形成固定磨料，并且可阻止产生摩擦热之层流进而避免造成工件晶界露出等状况发生。因为有专业抛光之知识支持，得以在光电以及精密机械设备零组件等要求超精密度抛光质量之产业有着举足轻重之地位。

应用实绩：
MR读取磁头、蓝宝石基板、碳化硅基板、 光学镜片、DWDM玻璃基板、CVD背板、铌酸锂(LiNbO3)基板、光盘模仁、LCD导光板模仁、LCD彩色滤光片涂布喷嘴、散热片、氮化铝(AlN)、静电吸盘(ESC)、车灯模具(Reflector)、砷化镓(GaAs)及氮化镓(GaN)等。